2025年4月23-25日
南京國(guó)際博覽中心
SiliconTech2025國(guó)際硅材料產(chǎn)業(yè)展覽會(huì) 國(guó)際石英及石英材料產(chǎn)業(yè)展覽會(huì) 將于2025年4月23-25日在南京國(guó)際博覽中心盛大舉行，本屆展會(huì)由山東中粉會(huì)展與中國(guó)粉體網(wǎng)聯(lián)合主辦。以“探索硅基新時(shí)代”為主旨，集中展示從石英原礦、加工產(chǎn)品、行業(yè)應(yīng)用等全產(chǎn)業(yè)鏈，匯集行業(yè)知名專家/教授、業(yè)界龍頭企業(yè)、技術(shù)專家與行業(yè)高管共同參與，是一年一度硅材料領(lǐng)域、石英材料領(lǐng)域重大盛會(huì)！
展商推薦
杭州晶馳機(jī)電有限公司成立于2021年7月，公司總部與研發(fā)中心位于杭州市蕭山區(qū)浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心，辦公面積約1000 ㎡。
公司致力于精密焊接技術(shù)的研究，金屬管件和真空腔體的開發(fā)與生產(chǎn)。主要為國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備——PVD、CVD、PECVD、MOCVD、刻蝕機(jī)、離子注入機(jī)等提供專用高端精密零部件，是國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備廠的重要供應(yīng)商。同時(shí)產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于大科學(xué)裝置、太陽(yáng)能光伏、LED、制藥設(shè)備和特種真空設(shè)備等一系列高端產(chǎn)業(yè)。產(chǎn)品技術(shù)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平，處于同行業(yè)發(fā)展前列。
公司以成為全球先進(jìn)材料制造裝備引領(lǐng)者為愿景，以解決國(guó)外對(duì)我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)卡脖子問(wèn)題，提升中國(guó)先進(jìn)材料制造能力，實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)口為使命，致力于碳化硅、金剛石、氮化鋁、氧化鎵等第三、四代半導(dǎo)體材料裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和應(yīng)用推廣。
目前公司產(chǎn)品包括6英寸水平進(jìn)氣和8英寸垂直進(jìn)氣碳化硅外延設(shè)備（LPCVD法），金剛石晶體生長(zhǎng)設(shè)備（MPCVD法），氮化鋁晶體生長(zhǎng)設(shè)備，碳化硅源粉合成爐，碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備（PVT法），氧化鎵單晶生長(zhǎng)爐（導(dǎo)模法、CZ法），各種晶體和晶片熱處理爐。
產(chǎn)品推薦
1.DRY-60A型熱處理爐（電動(dòng)）
該設(shè)備可穩(wěn)定實(shí)現(xiàn)碳化硅晶片與石墨件之間的粘合及固化處理，可實(shí)現(xiàn)工件的原位除氣、退火等工藝要求。設(shè)備按照國(guó)家、行業(yè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行設(shè)計(jì)，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理、操作便捷、人機(jī)交互友好、溫度和壓力可以自動(dòng)控制。
本設(shè)備可廣泛應(yīng)用于碳化硅籽晶粘接、陶瓷燒結(jié)，金屬擴(kuò)散焊接等工藝技術(shù)，滿足產(chǎn)品生產(chǎn)、技術(shù)研究、新材料合成的需求。
2.水平雙腔外延爐
（1）水平雙腔布置,硬件成本低于兩臺(tái)單腔外延爐;
（2）雙腔工藝和維護(hù)獨(dú)立,實(shí)現(xiàn)不停機(jī)連續(xù)生產(chǎn)；
（3）兼容4/6寸晶圓外延生長(zhǎng),外延層質(zhì)量?jī)?yōu)異;
（4）全自動(dòng)上下料，釋放人工成本;
3.單腔立式外延爐
（1）相較現(xiàn)有立式外延爐有更低的硬件成本,更小的占地面積;
（2）兼容4/6寸晶圓外延生長(zhǎng),成膜質(zhì)量好,可實(shí)現(xiàn)厚外延層快速生長(zhǎng)；
（3）更長(zhǎng)的維護(hù)周期,更低的耗材成本；
4.第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設(shè)備
設(shè)備采用雙工位設(shè)計(jì)，全封閉工作臺(tái)和強(qiáng)排風(fēng)系統(tǒng)有效防止腐蝕性堿蒸汽對(duì)操作人員的身體傷害。該系統(tǒng)集SiC晶片熱強(qiáng)堿腐蝕、快速清洗，再次超聲清洗和晶片烘干為一體，充分避免了操作人員與腐蝕性強(qiáng)堿溶劑的接觸。整個(gè)工藝流程全部自動(dòng)化控制，操作人員只需完成取放片操作，腐蝕效率高，適合產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。
5.915MHz微波等離子體沉積系統(tǒng)(裂縫天線耦合)
主要應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體襯底、熱沉片、珠寶、刀具、機(jī)械密封、新一代移動(dòng)通信、智能電網(wǎng)、消費(fèi)類電子等。
6.小圓柱式微波等離子體沉積（CVD）系統(tǒng)
該設(shè)備為微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（MWCVD）。采用2.45GHz頻率微波源，電場(chǎng)激發(fā)諧振腔模式為TM013模式，激發(fā)穩(wěn)定的等離子體。該系統(tǒng)可以穩(wěn)定生長(zhǎng)金剛石單晶材料、多晶晶圓。通過(guò)工藝調(diào)節(jié),可以穩(wěn)定生長(zhǎng)出 2 英寸金剛石晶圓。
主要應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體襯底、熱沉片、珠寶、刀具、機(jī)械密封、新一代移動(dòng)通信、智能電網(wǎng)、消費(fèi)類電子等。
山東中粉會(huì)展服務(wù)有限公司
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